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Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于铁电薄膜研究

放大字体  缩小字体 发布日期:2021-01-14  浏览次数:0
 某研究所在 PZT 铁电薄膜的电学性能研究中运用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE.

 Hakuto 离子刻蚀机 10IBE  离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 160

Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度.

 

研究表面采用伯东 Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 刻蚀工艺后PZT薄膜的铁电性能几乎能恢复到蚀刻前如矫顽场值、漏电流、疲劳性能等铁电性能会得到更好的改善.有利于提高贴点存储密度降低生产成本.

 

若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw

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