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Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C

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有效期至: 长期有效
最后更新: 2021-01-14 11:25
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公司基本资料信息
 
 
产品详细说明
   上海伯东日本原装进口适合中等规模量产使用的 Hakuto 离子刻蚀机, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却


Hakuto 离子蚀刻机 IBE 主要优点:

1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.

2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.

3. 配置使用美国考夫曼离子源

4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.

5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.

6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.

7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.


 

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C技术参数:

 φ4 inch X 6片

基板尺寸

< Ф3 inch X 8片
< Ф4 inch X 6片
< Ф8 inch X 1片

  可选

样品台

样品台可选直接冷却 / 间接冷却0-90度旋转

离子源

20cm 考夫曼离子源

均匀性

±5% for 8”Ф

硅片刻蚀率

20 nm/min

温度

<100


 

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 组成:
 


Hakuto 离子蚀刻机通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率:
 


 

若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王小姐

T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161

F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049

M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958

 

ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw

 

 

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